[发明专利]膜厚测定装置以及膜厚测定方法无效

专利信息
申请号: 200980111320.1 申请日: 2009-07-24
公开(公告)号: CN101981406A 公开(公告)日: 2011-02-23
发明(设计)人: 山田健夫;山本猛;山仓崇宽;林真治;河合慎吾 申请(专利权)人: 株式会社尼利可
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/27
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种膜厚测定装置以及膜厚测定方法,膜厚测定装置具有光源(101)、分光传感器(109)、处理器(120)、和存储装置(130),使来自上述光源的光垂直地入射到具有膜的测定对象面(501),被测定对象面反射的光入射到上述分光传感器。上述存储装置存储每种膜厚的反射率分布的理论值和每种膜厚的颜色特性变量的理论值,上述处理器使用存储于上述存储装置中的每种膜厚的反射率分布的理论值或每种膜厚的颜色特性变量的理论值,根据上述分光传感器所测定的反射率分布,求出测定对象面的膜的膜厚。
搜索关键词: 测定 装置 以及 方法
【主权项】:
一种膜厚测定装置,其具有光源、分光传感器、处理器和存储装置,该膜厚测定装置构成为使来自上述光源的光垂直地入射到具有膜的测定对象面,使被测定对象面反射的光入射到上述分光传感器,上述存储装置存储有每种膜厚的反射率分布的理论值和每种膜厚的颜色特性变量的理论值,该膜厚测定装置构成为由上述处理器使用存储于上述存储装置中的、每种膜厚的反射率分布的理论值或每种膜厚的颜色特性变量的理论值,根据上述分光传感器所测定的反射率分布,求出测定对象面的膜的膜厚。
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