[发明专利]偏光薄膜的检查方法无效
| 申请号： | 200980111518.X | 申请日： | 2009-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101981438A | 公开（公告）日： | 2011-02-23 |
| 发明（设计）人： | 篠塚淳彦;笠井利行;山根尚德 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/892 | 分类号： | G01N21/892 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;王轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 使用缺陷检查装置对带状的偏光薄膜进行缺陷的检出(S2)，基于缺陷的检出结果制作出表示缺陷的位置的缺陷位置数据并保存到存储介质中(S3)，将带状的偏光薄膜卷绕到滚筒上(S5)，从滚筒拉出带状的偏光薄膜(S6)，对带状的偏光薄膜层叠其它薄膜(S7)，在层叠了其它薄膜后，读入保存在存储介质中的缺陷位置数据，且基于读入的缺陷位置数据来确定偏光薄膜的缺陷位置(S8)，基于已确定的缺陷位置，在所述其它薄膜上的缺陷的附近位置上形成记号(S9)。由此，能够在偏光薄膜上被缺陷检查装置检出的缺陷的附近位置上形成记号，而不会出缺陷检查装置检出的缺陷中只包含允许缺陷的部分不能作为产品使用的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 薄膜 检查 方法 | ||
【主权项】：
一种偏光薄膜的检查方法，其特征在于，包括：用缺陷检查装置对带状的偏光薄膜进行缺陷的检出的工序；基于缺陷的检出结果制作出表示缺陷的位置的缺陷位置数据并保存到存储介质中的缺陷位置记录工序；在进行了所述缺陷的检出之后将带状的偏光薄膜卷绕到滚筒上的工序；从所述滚筒拉出带状的偏光薄膜的工序；对已被拉出的带状的偏光薄膜层叠其它薄膜的工序；在层叠了其它薄膜后，读入保存在存储介质中的缺陷位置数据，且基于读入的缺陷位置数据来确定偏光薄膜的缺陷位置，并基于已确定的缺陷位置而在所述其它薄膜上的缺陷的附近位置上形成记号的记号形成工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980111518.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种调质器转子
- 下一篇：一种立式水轮发电机防振安全保护装置
