[发明专利]金属薄膜形成装置和使用该装置的金属薄膜形成方法有效

专利信息
申请号: 200980111996.0 申请日: 2009-03-31
公开(公告)号: CN101983259A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 郑光春;赵显南;文大圭;康敏起;徐元奎;柳志勋 申请(专利权)人: 印可得株式会社
主分类号: C23C26/00 分类号: C23C26/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及形成金属薄膜的装置,所述金属薄膜是通过微波间接加热,迅速烧结形成于衬底或其类似物上的含金属组合物而形成;以及使用所述装置形成金属薄膜的方法。本发明用于形成金属薄膜的装置包含:屏蔽罩;至少一个微波产生单元,其安置于所述屏蔽罩中,用以输出微波;及至少一个微波吸收板,其与所述微波产生单元间隔开,用于以微波间接加热涂有含金属组合物的衬底,其中所述微波吸收板包含主体以及涂布所述主体的透明传导膜。另外,本发明用于形成金属薄膜的方法包含:用含金属组合物涂布衬底;使所述衬底接近或紧密接触上面具有透明传导膜的微波吸收板;及通过微波间接加热来烧结所述含金属组合物从而形成金属薄膜或图案的热处理步骤。
搜索关键词: 金属 薄膜 形成 装置 使用 方法
【主权项】:
一种形成金属薄膜的装置,包括:屏蔽罩;至少一个微波产生单元,安置于所述屏蔽罩中,用以输出微波;以及至少一个微波吸收板,与所述微波产生单元间隔开,用于以所述微波间接加热涂有含金属组合物的衬底,其中,所述微波吸收板包括主体和涂布在所述主体上的透明传导膜。
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