[发明专利]基于二苊并吡嗪并喹喔啉衍生物的溶致液晶体系及制法无效

专利信息
申请号: 200980112284.0 申请日: 2009-03-30
公开(公告)号: CN101990540A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 郑世俊;姜忠成;乔舒亚·蒂莱玛;罗伯特·拉米莱兹 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C07D487/02 分类号: C07D487/02;C09K19/34
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;阴亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了一类通式(I)和(II)所示的二苊并吡嗪并喹喔啉衍生物。这些化合物能够形成能够生产具有期望光学性能的光学各向同性或各向异性膜的液晶体系:(I)、(II),其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均独立地选自-H、-SO3M、-OH、-NH2、-Cl、-Br、-I、-NO2、-F、-CF3、-CN、-COOH、-CONH2、烷基、芳基、炔基、烯基、烷氧基、烷基氨基、苯氧基和苯基氨基;M是一种或多种相反离子;j是与该化合物缔合的相反离子的数量;并且n是1至5的整数。
搜索关键词: 基于 喹喔啉 衍生物 液晶 体系 制法
【主权项】:
1.具有以下结构通式(I)或(II)之一的化合物:其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均独立地选自-H、-SO3M、-OH、-NH2、-Cl、-Br、-I、-NO2、-F、-CF3、-CN、-COOH、-CONH2、烷基、芳基、炔基、烯基、烷氧基、烷基氨基、苯氧基和苯基氨基;M是一种或多种相反离子;j是与所述化合物缔合的相反离子的数量;并且n是1至5的整数。
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