[发明专利]成膜装置有效

专利信息
申请号: 200980112430.X 申请日: 2009-06-05
公开(公告)号: CN101990585A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 清水康男;小形英之;松本浩一;野口恭史;若森让治;冈山智彦;森冈和;杉山哲康;重田贵司;栗原広行 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/24;H01L31/04
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 齐葵;王诚华
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种成膜装置包括:成膜室(11),在真空中将希望的膜成膜在基板(W)上;放入取出室(13),经由第一开闭部(25)被固定于所述成膜室(11),并能将内部减压为真空气氛;第二开闭部(36),设置在所述放入取出室(13)的、与设置有所述第一开闭部(25)的面相反的面上;以及托架(21),以所述基板(W)的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板(W),所述托架或所述基板(W)通过所述第二开闭部(36)被搬入、搬出所述放入取出室(13),在所述放入取出室(13)中并列配置多个所述托架(21),在所述放入取出室(13)与所述成膜室(11)之间所述多个托架(21)被并列地搬入或搬出,在所述成膜室(11)中对保持在所述多个托架(21)上的多个所述基板(W)同时进行成膜。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
一种成膜装置,其特征在于,包括:成膜室,在真空中将希望的膜成膜在基板上;放入取出室,经由第一开闭部被固定于所述成膜室,并能将内部减压为真空气氛;第二开闭部,设置在所述放入取出室的、与设置有所述第一开闭部的面相反的面上;以及托架,以所述基板的成膜面与重力方向大致平行的方式保持所述基板,所述托架或所述基板通过所述第二开闭部被搬入、搬出所述放入取出室,在所述放入取出室中并列配置多个所述托架,在所述放入取出室与所述成膜室之间所述多个托架被并列地搬入、搬出,在所述成膜室中对保持在所述多个托架上的多个所述基板同时进行成膜。
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