[发明专利]通过弧蒸发制造金属氧化物层的方法有效
| 申请号： | 200980114304.8 | 申请日： | 2009-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN102016104A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | J·拉姆;B·维德里希 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/08;C23C14/32;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周铁;林森 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及通过PVD(物理气相沉积)、特别是通过阴极弧蒸发制造氧化层的方法，其中粉末台金靶被蒸发，且所述粉末冶金靶由至少两种金属或半金属组分形成，选择与所述靶相应的金属或半金属组分的化学组成从而使得在从室温到液相转变的加热过程中，基于所述至少两种金属或半金属组分的熔融混合物的相图，不会穿过任何纯固相的相界。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 蒸发 制造 金属 氧化物 方法 | ||
【主权项】：
通过PVD(物理气相沉积)、特别是通过阴极弧蒸发制造氧化层的方法，其中粉末冶金靶被蒸发，且所述粉末冶金靶由至少两种金属或半金属元素形成，选择所述金属或半金属组分或所述靶的组成，从而使得在从室温到液相转变的加热过程中，基于所述至少两种金属或半金属元素的熔融混合物的相图，不会穿过任何纯固相的相界。
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