[发明专利]具有空穴注入传输层的器件及其制造方法、以及用于形成空穴注入传输层的墨液有效

专利信息
申请号: 200980114949.1 申请日: 2009-04-28
公开(公告)号: CN102017217A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 上野滋弘;桥本庆介;冈田政人;武诚司;田口洋介;加纳正隆;藤本慎也 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张宝荣
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种制造工艺简单且可以实现长寿命的器件。所述器件的特征在于,具有在基板上对置的2个以上电极和配置在其中的2个电极间的空穴注入传输层,所述空穴注入传输层含有含过渡金属的纳米粒子,所述含过渡金属的纳米粒子包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物及过渡金属和保护剂,或者包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物和保护剂。
搜索关键词: 具有 空穴 注入 传输 器件 及其 制造 方法 以及 用于 形成
【主权项】:
一种器件,其特征在于,所述器件具有在基板上对置的2个以上电极和配置在其中的2个电极间的空穴注入传输层,所述空穴注入传输层含有含过渡金属的纳米粒子,所述含过渡金属的纳米粒子包含至少含有过渡金属氧化物的过渡金属化合物及过渡金属和保护剂,或者包含至少含有过渡金属氧化物的过渡金属化合物和保护剂。
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