[发明专利]成像光学系统无效
| 申请号： | 200980115665.4 | 申请日： | 2009-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN102016677A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 德弘节夫;原明子 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G02B1/10;G02B5/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种成像光学系统，其可以不使IR阻断涂层与透镜的密合性出现问题地设置IR阻断部件。本发明的成像光学系统为介由间隔件(40、50)对玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部的多个成像用透镜(10、20、30)层叠了的系统，其特征在于，在相互相邻的成像用透镜(10、20)间，透镜部(13、22)之间存在呈凹状的部位，在配置于该部位的间隔件(40)上形成IR阻断涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
一种成像光学系统，其特征在于，其为一边介由间隔件一边将多个成像用透镜层叠了的成像光学系统，所述成像用透镜部在玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部，在相互相邻的所述成像用透镜间所述透镜部彼此存在呈凹状的部位，在配置于该部位的所述间隔件上形成有IR阻断涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达精密光学株式会社，未经柯尼卡美能达精密光学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980115665.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含有DNA甲基化状态改变的神经再生细胞
- 下一篇：夹芯复合材料的开口补强装置
