[发明专利]含氟聚合物的制备方法及含氟离子交换膜有效
申请号: | 200980115746.4 | 申请日: | 2009-04-28 |
公开(公告)号: | CN102015776A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 富田年则;野村顺平;齐藤润二;松冈康彦;梅村和郎 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C08F2/14 | 分类号: | C08F2/14;C08F214/18 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 冯雅;胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明使用臭氧破坏系数或全球变暖系数小、链转移常数小的聚合介质,高效地制备高分子量的耐热性、耐溶剂性、耐化学品性等良好的含氟聚合物。所述方法是以氢氟烃为介质使具备羧酸型官能团的含氟单体与含氟烯烃聚合而制备含氟聚合物的方法,其特征在于,作为聚合介质的氢氟烃的碳原子数为4~10,且氢原子数/氟原子数的摩尔基准比例(H/F比)为0.05~20。 | ||
搜索关键词: | 聚合物 制备 方法 离子交换 | ||
【主权项】:
含氟聚合物的制备方法,它是以氢氟烃为介质使分子中含1个以上的氟原子且具备羧酸型官能团的含氟单体与分子中含1个以上的氟原子的含氟烯烃聚合而制备含氟聚合物的方法,其特征在于,所述氢氟烃的碳原子数为4~10,且氢原子数/氟原子数的摩尔基准比例为0.05~20。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980115746.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:笔位置传感器及点读机及笔位置检出方法
- 下一篇:方言输入法