[发明专利]气化器及使用该气化器的成膜装置有效
申请号: | 200980116734.3 | 申请日: | 2009-06-12 |
公开(公告)号: | CN102016116A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 田中澄;二村宗久 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L21/31 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种气化器及使用该气化器的成膜装置,该气化器能够防止液体原料的排出口因附着物而堵塞。气化器(300)使从喷嘴(320)的排出口(322)排出的液体原料在被加热的气化室(360)内气化而生成原料气体,该气化器(300)包括:在喷嘴的前端部(323)与气化室之间按照覆盖排出口的周围的方式设置的筒形状的被加热部件(340);从排出口的附近喷出载气的载气喷出口(326);使从排出口排出的液体原料与载气混合后向气化室喷出的混合室(344);从气化室的外侧加热气化室的第一加热部(加热器(392、394));和从被加热部件的外侧加热被加热部件的第二加热部(加热器(342))。 | ||
搜索关键词: | 气化 使用 装置 | ||
【主权项】:
一种气化器,其特征在于,包括:以规定的压力供给液体原料的贮液室;被设置成从所述贮液室突出、用于排出所述贮液室内的液体原料的喷嘴;将所述喷嘴的排出口排出的所述液体原料气化并生成原料气体,并将该原料气体从送出口送出的气化室;设置在所述喷嘴的前端部与所述气化室之间,并覆盖所述排出口周围的筒形状被加热部件;设置于所述被加热部件,用于从所述排出口的附近喷出载气的载气喷出口;在所述被加热部件内被分隔而成的、用于将所述排出口排出的所述液体原料与所述载气混合后向所述气化室喷出的混合室;从所述气化室的外侧对所述气化室进行加热的第一加热部;和从所述被加热部件的外侧对所述被加热部件进行加热的第二加热部。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的