[发明专利]电路模块及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980117248.3 申请日: 2009-05-11
公开(公告)号: CN102027585A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: P·帕姆;R·图奥米宁;A·伊赫拉 申请(专利权)人: 伊姆贝拉电子有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/538
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 王勇
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电路模块及其制造方法,包括:绝缘层(1);位于绝缘层(1)内部的至少一个元件(6),其包括接触区域(7),接触区域的材料包括第一金属。导体(22)位于绝缘层(1)的表面上,其包括至少第一层(12)和第二层(32),方式是至少第二层(32)包括第二金属。电路模块包括在接触区域(7)和导体(22)之间形成电接触的接触部件,该接触部件本身包括位于接触区域(7)的材料的表面上的中间层(2),中间层包括第三金属,其中第一、第二和第三金属是不同的金属,并且中间层(2)和接触区域(7)之间的接触表面面积(ACONT1)小于接触区域(7)的表面面积(APAD)。
搜索关键词: 电路 模块 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用来制造电路模块的方法,该方法包括:采用导体薄片(12),在导体薄片(12)中制造接触开口(8),用来制造接触部件,采用包括接触区域(7)的元件(6),接触区域的材料包括第一金属,通过聚合体层(25)将元件(6)接附到导体薄片(12),制造围绕接附到导体薄片(12)的元件(6)的绝缘层(1),以每个接触孔(18,28)和对应接触区域(7)之间的接触表面面积(ACONT1)小于接触区域(7)的表面面积(APAD)的方式,在接触区域(7)的位置处的聚合体层(25)中制造接触孔(18,28),并且至少在接触孔(18、28)中的接触区域(7)的表面上生长中间层(2),中间层(2)包括至少第三金属,并且生长第二金属的层(32),该层(32)和中间层(2)的表面相接触,并且沿着制成的导体(22)延伸,并且通过图案化导体薄片(12)形成导体(22),并且如果需要还图案化导体薄片(12)表面上的中间层(2)和/或第二金属的层(32)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊姆贝拉电子有限公司,未经伊姆贝拉电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980117248.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code