[发明专利]具有脲结构的新型噻吩二胺衍生物无效
申请号: | 200980118704.6 | 申请日: | 2009-05-25 |
公开(公告)号: | CN102036978A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 茂木宽幸;田岛久嗣;三品纪子;山崎裕辅;米田信次;渡边克彦;藤河顺子;山本实 | 申请(专利权)人: | 参天制药株式会社 |
主分类号: | C07D333/36 | 分类号: | C07D333/36;A61K31/381;A61K31/4436;A61K31/4439;A61K31/444;A61K31/496;A61K31/5377;A61P1/00;A61P1/04;A61P1/16;A61P3/10;A61P7/00;A61P7/06 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明涉及具有脲结构的新型噻吩二胺衍生物的合成研究及发现该衍生物的药理作用。本发明提供式(1)表示的化合物或其盐。式中,R1及R2相同或不同,表示氢原子、可以具有取代基的低级烷基等;R3表示羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、可以具有取代基的低级环烷基氧基等;R4及R5相同或不同,表示卤原子、低级烷基、羟基等;X表示可以具有取代基的低级亚烷基等;Y表示单键或可以具有取代基的低级亚烷基等;W1-W2表示N-CH、CH-N等;l、m等相同或不同,表示0、1等。 |
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搜索关键词: | 具有 结构 新型 噻吩 衍生物 | ||
【主权项】:
1.下述通式(1)表示的化合物或其盐,
R1及R2相同或不同,表示氢原子、可以具有取代基的低级烷基、可以具有取代基的低级链烯基、可以具有取代基的低级炔基或下述通式(2)表示的基团;
R3表示羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、可以具有取代基的低级环烷基氧基、可以具有取代基的芳基氧基、羧基、可以具有取代基的低级烷氧基羰基、-NRaRb或下述通式(3)表示的基团;
R4及R5相同或不同,表示卤原子、低级烷基、羟基或低级烷氧基;R6表示卤原子、可以具有取代基的低级烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的杂环基、羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、巯基、可以具有取代基的低级烷基硫基、可以具有取代基的低级烷基羰基、氨基、硝基或氰基;R7表示可以具有取代基的低级烷基、羟基或可以具有取代基的低级烷氧基;Ra及Rb相同或不同,表示氢原子或可以具有取代基的低级烷基;环A表示环式烃或杂环;环B表示环内具有选自氮原子及氧原子中的1个或多个杂原子的杂环;X表示可以具有取代基的低级亚烷基;Y及Z相同或不同,表示单键或可以具有取代基的低级亚烷基;W1-W2表示N-CH、CH-N或CH-CH;l、m、n及o相同或不同,表示0、1、2或3。
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