[发明专利]具有脲结构的新型噻吩二胺衍生物无效

专利信息
申请号: 200980118704.6 申请日: 2009-05-25
公开(公告)号: CN102036978A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 茂木宽幸;田岛久嗣;三品纪子;山崎裕辅;米田信次;渡边克彦;藤河顺子;山本实 申请(专利权)人: 参天制药株式会社
主分类号: C07D333/36 分类号: C07D333/36;A61K31/381;A61K31/4436;A61K31/4439;A61K31/444;A61K31/496;A61K31/5377;A61P1/00;A61P1/04;A61P1/16;A61P3/10;A61P7/00;A61P7/06
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及具有脲结构的新型噻吩二胺衍生物的合成研究及发现该衍生物的药理作用。本发明提供式(1)表示的化合物或其盐。式中,R1及R2相同或不同,表示氢原子、可以具有取代基的低级烷基等;R3表示羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、可以具有取代基的低级环烷基氧基等;R4及R5相同或不同,表示卤原子、低级烷基、羟基等;X表示可以具有取代基的低级亚烷基等;Y表示单键或可以具有取代基的低级亚烷基等;W1-W2表示N-CH、CH-N等;l、m等相同或不同,表示0、1等。
搜索关键词: 具有 结构 新型 噻吩 衍生物
【主权项】:
1.下述通式(1)表示的化合物或其盐,R1及R2相同或不同,表示氢原子、可以具有取代基的低级烷基、可以具有取代基的低级链烯基、可以具有取代基的低级炔基或下述通式(2)表示的基团;R3表示羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、可以具有取代基的低级环烷基氧基、可以具有取代基的芳基氧基、羧基、可以具有取代基的低级烷氧基羰基、-NRaRb或下述通式(3)表示的基团;R4及R5相同或不同,表示卤原子、低级烷基、羟基或低级烷氧基;R6表示卤原子、可以具有取代基的低级烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的杂环基、羟基、可以具有取代基的低级烷氧基、巯基、可以具有取代基的低级烷基硫基、可以具有取代基的低级烷基羰基、氨基、硝基或氰基;R7表示可以具有取代基的低级烷基、羟基或可以具有取代基的低级烷氧基;Ra及Rb相同或不同,表示氢原子或可以具有取代基的低级烷基;环A表示环式烃或杂环;环B表示环内具有选自氮原子及氧原子中的1个或多个杂原子的杂环;X表示可以具有取代基的低级亚烷基;Y及Z相同或不同,表示单键或可以具有取代基的低级亚烷基;W1-W2表示N-CH、CH-N或CH-CH;l、m、n及o相同或不同,表示0、1、2或3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于参天制药株式会社,未经参天制药株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980118704.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top