[发明专利]非线性光学方法和结构无效
| 申请号： | 200980118865.5 | 申请日： | 2009-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN102036917A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 西奥多·阿列凯尔 | 申请（专利权）人： | 深光子学公司 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00;G02F1/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;吴鹏章 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种化学式为YiLajAlkB16O48的非线性光学晶体，其中2.8≤i≤3.2，0.8≤j≤1.2，i和j之和为约4并且k为约12。该非线性光学晶体可用于包括变频的非线性光学应用。在特定实施方案中，非线性光学晶体的特征在于UV抑制杂质(例如某些过渡金属和镧系元素)的浓度低于1000ppm，以提供在部分UV谱(例如175-360nm)中的高透射率。 | ||
| 搜索关键词： | 非线性 光学 方法 结构 | ||
【主权项】：
一种通式包括YiLajAlkB16O48的组合物，其中2.8≤i≤3.2，0.8≤j≤1.2，i和j之和为约4并且k为约12。
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