[发明专利]防反射膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200980119097.5 | 申请日： | 2009-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN102047149A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 佐藤一也;松本司;渡边裕;六波罗淳 | 申请（专利权）人： | DNP精细化工股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B29C33/38;B29C59/02;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于发现具有优异的光的防反射性能或优异的光的透射性能的防反射膜所要求的表面形状和物性，并提供具有该特定的表面形状和物性的防反射膜以及该防反射膜的制造方法。本发明提供一种防反射膜，其特征在于，其通过以下方式获得：利用机械研磨、化学研磨和/或电解研磨对铝材料的表面进行加工后，通过阳极氧化与阳极氧化被膜的蚀刻的组合制作在该铝材料的表面具有锥形细孔的模，并将该模转印到防反射膜形成材料上，由此获得防反射膜；其表面具有平均高度100nm以上且1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上且1000nm以下的凹部，该凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在，且雾度为15％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种防反射膜，其特征在于，其通过以下方式获得：利用机械研磨、化学研磨和/或电解研磨对铝材料的表面进行加工后，通过阳极氧化与阳极氧化被膜的蚀刻的组合制作在该铝材料的表面具有锥形细孔的模，并将该模转印到防反射膜形成材料上，由此获得防反射膜；该获得的防反射膜表面具有平均高度100nm以上且1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上且1000nm以下的凹部，该凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在，且所述防反射膜的雾度为15％以下。
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