[发明专利]采用选择性制造的碳纳米管可逆电阻切换元件的存储器单元及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200980120069.5 申请日: 2009-04-10
公开(公告)号: CN102047421A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 阿普里尔·D·施里克 申请(专利权)人: 桑迪士克3D有限责任公司
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10;H01L27/102;H01L27/28;H01L51/00;G11C13/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 黄小临
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在一些方面,提供了制造存储器单元的方法,包括:在衬底上制造操纵元件;以及通过在所述衬底上沉积硅-锗层来制造碳纳米管(“CNT”)籽晶层、构图并蚀刻CNT籽晶层、以及在CNT籽晶层上选择性地制造CNT材料,来制造与所述操纵元件耦接的可逆电阻切换元件。提供了许多其他方面。
搜索关键词: 采用 选择性 制造 纳米 可逆 电阻 切换 元件 存储器 单元 及其 形成 方法
【主权项】:
一种制造存储器单元的方法,该方法包括:在衬底上制造操纵元件;以及通过以下步骤制造与所述操纵元件耦接的可逆电阻切换元件:通过在所述衬底上沉积硅‑锗层来制造碳纳米管(“CNT”)籽晶层;构图并蚀刻CNT籽晶层;以及在CNT籽晶层上选择性地制造CNT材料。
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