[发明专利]用于铜-锡合金无氰化物沉积的含焦磷酸盐的镀液有效
申请号: | 200980120470.9 | 申请日: | 2009-05-29 |
公开(公告)号: | CN102046852A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | P·哈特曼;K-D·舒尔茨;L·科尔曼;H·布鲁纳 | 申请(专利权)人: | 阿托特希德国有限公司 |
主分类号: | C25D3/60 | 分类号: | C25D3/60;C25D3/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 林柏楠;彭飞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明描述了含焦磷酸盐的镀液,其用于铜合金在基底表面上的无氰化物沉积,包含仲单胺与二环氧甘油醚的反应产物。该电解质镀液适用于电沉积有光泽的白色、平坦和均匀的铜-锡合金涂层。 | ||
搜索关键词: | 用于 合金 氰化物 沉积 磷酸盐 | ||
【主权项】:
含焦磷酸盐的镀液,其用于铜‑锡合金在基底表面上的无氰化物沉积,包含仲单胺与二环氧甘油醚的反应产物。
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