[发明专利]气体分布喷头裙部

摘要

本发明大体上包含一种在处理腔室中从气体分布喷头延伸而出的延伸部或裙部。当处理基板时，气体分布喷头可以受到电偏压。在一些情况下，受到电偏压的喷头会激发处理气体使其成为等离子体态。处理腔室的腔壁和基座可相对于喷头而言是接地的。因此，与电偏压的喷头相比，基板的边缘可具有较大的接地接触表面积。由于靠近边缘处的接地增加，沉积在基板上的材料可能与基板中间处的材料有不同性质。通过使喷头边缘向下延伸而更靠近基板，可获得具有实质均匀性质的材料。

主权项

一种设备，其包括：处理腔室主体；气体分布喷头，设置在所述处理腔室主体中，所述气体分布喷头耦接至第一功率源并且具有大致矩形形状；辅助电极，设置在所述处理腔室主体中，并且耦接至所述第一功率源或第二功率源；以及基座，设置在所述处理腔室主体中，并且与所述辅助电极和所述气体分布喷头间隔开来。