[发明专利]多层反射镜和光刻设备有效

专利信息
申请号: 200980120621.0 申请日: 2009-05-20
公开(公告)号: CN102047183A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: D·格卢什科夫;V·巴内尼;J·H·J·莫尔斯;L·A·斯基梅诺克;N·N·塞拉斯申科 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G21K1/06;G03F1/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2-8nm范围内的波长的辐射。所述多层反射镜具有从由Cr和Sc层,Cr和C层,C和B4C层,U和B4C层,Th和B4C层,C和B9C层,La和B9C层,U和B9C层,Th和B9C层,La和B层,C和B层,U和B层,以及Th和B层构成的组中选出的交替层。
搜索关键词: 多层 反射 光刻 设备
【主权项】:
一种多层反射镜,所述多层反射镜被构造且被布置以反射具有在2‑8nm范围内的波长的辐射,所述多层反射镜具有交替层,所述交替层包括第一层和第二层,所述第一层和第二层是从由Cr和Sc层,Cr和C层,C和B4C层,U和B4C层,Th和B4C层,C和B9C层,La和B9C层,U和B9C层,Th和B9C层,La和B层,C和B层,U和B层,Th和B层,La化合物和B4C层,U化合物和B4C层,Th化合物和B4C层,La化合物和B9C层,U化合物和B9C层,Th化合物和B9C层,La化合物和B层,U化合物和B层,以及Th化合物和B层构成的组中选择的。
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