[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法无效
| 申请号： | 200980121282.8 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN102057760A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 平山昌树;大见忠弘 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有特性阻抗在输入侧与输出侧不同的同轴管构造的等离子体处理装置。利用电磁波激发气体来对基板进行等离子体处理的微波等离子体处理装置(10)，具备：处理容器(100)；输出微波的微波源(900)；第1同轴管(610)，被用于传输从微波源(900)输出的微波；以及介电体板(305)，其以面向处理容器(100)的内侧的状态与第1同轴管(610)邻接，用于将沿第1同轴管(610)传输来的微波释放到处理容器(100)的内部。具有第1同轴管(610)的内部导体(610a)与外部导体(610b)的粗细之比沿长度方向上不一致的构造。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其利用电磁波激发气体来对被处理体进行等离子体处理，具备：处理容器；输出电磁波的电磁波源；第1同轴管，其具有内部导体与外部导体的粗细之比沿长度方向上不一致的构造，且被用于传输从上述电磁波源输出的电磁波；以及介电体板，其面向上述处理容器的内部且与上述第1同轴管邻接，并用于将沿上述第1同轴管传输来的电磁波释放到上述处理容器的内部。
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