[发明专利]曝光装置和曝光方法

摘要

提供一种即使基板在其面内不均匀地变形的情况下，也可以精度良好地进行各光学系统曝光的区域的位置对准的曝光装置和曝光方法。在可以对作为曝光对象物的基板(5)进行曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(1)中，具备可以检测形成于上述基板(5)的表面的对准标记(52)的多个标记检测系统(20)以及可以分别对规定的投影区域(F1～F7)照射光能的多个投影光学系统(15)，上述标记检测系统(20)配设在相邻的上述投影光学系统(15)彼此之间以及上述多个投影光学系统(15)的两端。

主权项

一种曝光装置，是可以对作为曝光对象物的基板进行曝光的步进扫描方式的曝光装置，其特征在于：具备可以检测形成于上述基板的表面的对准标记的多个标记检测系统和可以分别对规定的投影区域照射光能的多个投影光学系统，上述标记检测系统配设在相邻的上述投影光学系统彼此之间以及上述多个投影光学系统的两端。