[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法无效
| 申请号： | 200980121686.7 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN102057762A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 平山昌树;大见忠弘 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/511;H01L21/265;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供含有在分支部分非垂直地延伸的同轴管的同轴管分配器。等离子体处理装置(10)，通过微波激发气体来对被处理体进行等离子体处理，其具备：处理容器(100)；输出微波的微波源(900)；传输从微波源(900)输出的微波的传输线路(900a)；被设置在处理容器(100)的内壁，用于将微波释放到处理容器内的多个介电体板(305)；与多个介电体板(305)邻接，将微波向多个介电体板(305)传输的多个第1同轴管(610)；将沿传输线路(900a)传输的微波分配传输给多个第1同轴管(610)的1段或者2段以上的同轴管分配器(700)，同轴管分配器(700)包括具有输入部(In)的第2同轴管(620)和与第2同轴管连结的3根以上的第3同轴管(630)，第3同轴管分别相对于第2同轴管(620)呈非垂直地延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其通过电磁波激发气体来对被处理体进行等离子体处理，具备：处理容器；输出电磁波的电磁波源；传输已从上述电磁波源输出的电磁波的传输线路；多个介电体板，其被设置在上述处理容器的内壁，用于将电磁波释放到上述处理容器内；多个第1同轴管，其与上述多个介电体板邻接，向上述多个介电体板传输电磁波；以及1段或者2段以上的同轴管分配器，其将沿上述传输线路传输来的电磁波分配传输给上述多个第1同轴管，上述同轴管分配器中的至少一段包括具有输入部的第2同轴管和与上述第2同轴管连结的3根以上的第3同轴管，第3同轴管分别具有相对于上述第2同轴管呈非垂直地延伸的部分。
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