[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 200980123070.3 申请日: 2009-07-22
公开(公告)号: CN102067039A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: J·奥腾斯;J·雅各布斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 物体支撑结构构造成支撑物体。物体支撑结构包括回填结构,构造成供给热缓冲流体至物体支撑结构并从物体支撑结构抽取热缓冲流体。回填结构连接至抽取管道,其构造并布置成从回填结构抽取至少气相的热缓冲流体。回填结构连接至供给管道,构造并布置成供给液相热缓冲流体至回填结构。回填结构布置成使得热缓冲流体成为气相和液相的组合的状态,以与物体热接触。
搜索关键词: 光刻 设备 器件 制造 方法
【主权项】:
一种温度稳定系统,构造成稳定物体的温度,所述系统包括:物体支撑结构,构造成当物体安装在物体支撑位置上时支撑所述物体;回填结构,构造并布置成供给缓冲流体以与所述物体热接触以及抽取与所述物体热接触的缓冲流体;抽取管道,构造并布置成从所述回填结构至少抽取至少气相的热缓冲流体;和供给管道,构造并布置成供给至少液相的热缓冲流体,所述回填结构布置成当在缓冲流体和物体之间建立热接触时使热缓冲流体成为液相和气相的组合的状态。
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