[发明专利]用于限定用于成像体积的磁场的磁组件和方法有效
申请号: | 200980124177.X | 申请日: | 2009-06-25 |
公开(公告)号: | CN102150222A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 |
发明(设计)人: | 吉诺·B·法洛内;托尼·塔迪奇;布雷德·穆雷 | 申请(专利权)人: | 艾伯塔健康服务中心 |
主分类号: | H01F7/00 | 分类号: | H01F7/00;G01R33/387;G01R33/3875;H01F41/02;G01R33/48;G21K1/093 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 梁晓广;关兆辉 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
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摘要: | 在此公开了一种磁组件,所述磁组件包括至少两个磁体,它们以彼此固定的间隔关系进行布置,从而在磁体之间限定包含成像体积的空间。磁体中的每一个在其向内的表面上产生多个磁场强度,该多个磁场强度以组合的方式所述成像体积内产生可接受地均匀的磁场。还公开了一种限定用于成像体积的磁场的方法。所述方法包括:产生磁组件的初始模型;基于模型来估计用于成像体积的磁场;计算估计的磁场和用于成像体积的目标磁场之间的偏差;以及通过修改磁组件以产生多个磁场强度来更新模型以减少偏差,多个磁场强度以组合的方式基本上产生成像体积中的目标磁场。 | ||
搜索关键词: | 用于 限定 成像 体积 磁场 组件 方法 | ||
【主权项】:
一种磁组件,包括:至少两个磁体,所述至少两个磁体以彼此固定的间隔关系进行布置,由此在所述磁体之间限定包含成像体积的空间,所述磁体中的每一个在其向内的表面上产生多个磁场强度,所述多个磁场强度以组合的方式在所述成像体积内产生可接受地均匀的磁场。
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