[发明专利]用于显微光刻投影系统的远心性校正器有效
| 申请号： | 200980126128.X | 申请日： | 2009-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN102077143A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | J·D·康纳尔;J·D·玛拉齐;P·F·米开罗斯基;J·E·韦伯 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/22;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种远心性校正器被纳入到显微光刻投影系统中，以在该显微光刻投影系统的输出处实现远心性目标。该远心性校正器位于该投影系统的照明装置与投影透镜之间，优选正好在用于控制照射掩模板的光的角分布的掩模板之前。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 显微 光刻 投影 系统 心性 校正 | ||
【主权项】：
一种光刻投影系统，包括：光源，用于从所述光源接收光的照明装置，所述照明装置用于照射所述照明装置的像面处的掩模板，用于向衬底上投影所述掩模板的图像的投影透镜，以及位于所述照明装置的像面或像面的共轭面附近的远心性校正器，用于使照射所述掩模板的光进行局部角度重新分布，以匹配所述衬底处的远心性目标规范。
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