[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及微透镜的制造方法有效

专利信息
申请号: 200980126272.3 申请日: 2009-07-07
公开(公告)号: CN102089710A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 汤川升志郎;岸冈高广;坂口崇洋;庄田浩之 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/023 分类号: G03F7/023;C08F12/32;G02B1/04;G02B3/00;G02F1/1333;G03F7/004
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 段承恩;田欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题是提供透明性、耐热性和折射率优异的、特别适合用于形成微透镜和形成平坦化膜的正型抗蚀剂组合物,以及由该正型抗蚀剂组合物形成的微透镜和平坦化膜。作为本发明的解决课题的方法是,一种正型抗蚀剂组合物,其包含下述成分(A)、成分(B)和成分(C):成分(A):包含具有联苯结构的结构单元的碱溶性聚合物;成分(B):具有光分解而产生碱溶性基团的有机基团的化合物;成分(C):溶剂。还可以是,上述正型抗蚀剂组合物,其中,成分(A)的碱溶性聚合物是包含式(1)所示结构单元的聚合物,且当将构成聚合物(A)的结构单元的总数设为1.0时,构成聚合物(A)的式(1)所示结构单元的比例n1满足0.3≤n1≤1.0。
搜索关键词: 正型抗蚀剂 组合 以及 透镜 制造 方法
【主权项】:
一种正型抗蚀剂组合物,其包含下述成分(A)、成分(B)和成分(C):成分(A):包含具有联苯结构的结构单元的碱溶性聚合物;成分(B):具有能够进行光分解、并在光分解时产生碱溶性基团的有机基团的化合物;成分(C):溶剂。
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