[发明专利]具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜及其生产方法有效

专利信息
申请号: 200980126500.7 申请日: 2009-06-26
公开(公告)号: CN102105305A 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 伊藤真树;须藤通孝;栉引信男;畑中秀克;江口胜哉;E·D·卡特索里斯 申请(专利权)人: 道康宁东丽株式会社;陶氏康宁公司
主分类号: B32B27/28 分类号: B32B27/28;C08L83/04;C08L83/06;C08L83/05;C08J7/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张钦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其中在可见光区域透明的膜上形成含有有机官能团,通过可聚合有机官能团之间的聚合产生的有机基团,或氢甲硅烷基或硅烷醇基的固化的有机基聚硅氧烷层,其中所述可见光区域透明的膜包括通过氢化硅烷化反应介导的交联得到的固化的有机基聚硅氧烷树脂,和其中在前述固化的有机基聚硅氧烷层上形成氮氧化硅层,氮化硅层或氧化硅层。此外,生产具有气体阻挡性能的这一固化的有机基聚硅氧烷树脂膜的方法。
搜索关键词: 具有 气体 阻挡 性能 固化 有机 基聚硅氧烷 树脂 及其 生产 方法
【主权项】:
一种具有气体阻挡性能的固化的有机基聚硅氧烷树脂膜,其特征在于:在下述膜上形成含有机官能团的固化的有机基聚硅氧烷层,所述膜在可见光区域内透明且包括在(C)氢化硅烷化反应催化剂存在下通过(A)和(B)之间的交联反应获得的固化的有机基聚硅氧烷树脂:(A)用平均硅氧烷单元式RaSiO(4‑a)/2(1)表示且每一分子平均具有至少1.2个C2‑C10不饱和脂族烃基的有机基聚硅氧烷树脂,在该式中,R是C1‑C10单价烃基,和a是平均值范围为0.5<a<2的数值;(B)每一分子具有至少两个与硅键合的氢原子的有机基硅化合物,和在固化的有机基聚硅氧烷层上形成选自氮氧化硅层、氮化硅层和氧化硅层的透明无机层。
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