[发明专利]氧化物烧结体、包含该烧结体的溅射靶、该烧结体的制造方法及该烧结体溅射靶的制造方法无效
| 申请号： | 200980126562.8 | 申请日： | 2009-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN102089256A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 佐藤和幸;小井土由将 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/00 | 分类号： | C04B35/00;C04B35/50;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化物烧结体，包含镧和铪的复合氧化物，其特征在于，烧结体中所含的铪相对于镧含有当量以上。本发明提供一种镧与铪的氧化物烧结体的制造方法，其特征在于，使用La2(CO3)3粉末和HfO2粉末作为原料粉末，以Hf与La的组成摩尔比为1～1.2的方式进行配合并混合后，将该混合粉末在大气中进行加热合成，然后将该合成材料粉碎得到粉末后，将该合成粉末进行热压而得到烧结体。金属镧快速地与氧结合而崩解，另外氧化镧与水分结合形成氢氧化物而变为粉末状，因此存在均难以长期保存，即使制成溅射靶，也不能实际应用的问题。鉴于此，本发明提供包含镧(La)和铪(Hf)的氧化物的稳定的含La氧化物烧结体，并提供特别适合形成High-k栅绝缘膜的含La氧化物溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 包含 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化物烧结体，包含镧和铪的复合氧化物，其特征在于，烧结体中所含的铪相对于镧含有当量以上。
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