[发明专利]晶体振子的制造方法有效
申请号: | 200980127064.5 | 申请日: | 2009-10-16 |
公开(公告)号: | CN102089969A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 加藤晶子;柳泽彻 | 申请(专利权)人: | 西铁城控股株式会社 |
主分类号: | H03H3/02 | 分类号: | H03H3/02;H01L41/08;H01L41/09;H01L41/18;H01L41/22 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种无需对晶体振子施加多余的外力而可以实现高精度的微细调整,并且可以对多个晶体振子一并进行调整的晶体振子的制造方法。一种晶体振子的制造方法,其特征在于包括:形成规定的外形形状的第1蚀刻工序;在所述外形形状的表面的至少一部分中形成电极的电极形成工序;对通过所述外形形状的泄漏振动引起的泄漏量进行测定的泄漏量测定工序;为了调整平衡,对所述外形形状进行基于所述泄漏量测定工序的测定结果的量的蚀刻的第2蚀刻工序。 | ||
搜索关键词: | 晶体 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种晶体振子的制造方法,其特征在于包括:第1蚀刻工序,形成规定的外形形状;电极形成工序,在所述外形形状的表面的至少一部分中形成电极;泄漏量测定工序,对通过所述外形形状的泄漏振动引起的泄漏量进行测定;以及第2蚀刻工序,为了调整平衡,对所述外形形状进行基于所述泄漏量测定工序的测定结果的量的蚀刻。
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