[发明专利]耐水性偏光膜的制造方法无效
申请号: | 200980127491.3 | 申请日: | 2009-10-05 |
公开(公告)号: | CN102089686A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 梅本彻;铃木聪;龟山忠幸 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;C09B31/072;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 以往,存在使用了具有由磺酸离子与1价阳离子键合而成的磺酸盐基的有机色素的偏光膜,但有机色素会溶于水,因此缺乏耐水性。因而,已知将磺酸盐基的1价阳离子置换成不溶于水的多价阳离子来获得不溶或难溶于水的耐水性偏光膜。然而,通过现有方法获得的耐水性偏光膜具有二色性比小、并且表面会产生细小的龟裂(裂纹)的问题。使由有机色素与聚乙烯醇系聚合物的混合物获得的偏光膜与包含(1)有机胺阳离子和多价金属阳离子中的至少一种和(2)四羟基硼酸阴离子的耐水化处理液接触来进行耐水化处理,从而获得二色性比高、不产生龟裂的耐水性偏光膜。 | ||
搜索关键词: | 耐水性 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种耐水性偏光膜的制造方法,其特征在于,该制造方法包括如下工序:使包含具有2个以上阴离子性基团的有机色素和聚乙烯醇系聚合物的偏光膜的表面与耐水化处理液接触来进行耐水化处理,所述耐水化处理液包含有机胺阳离子和多价金属阳离子中的至少一种和四羟基硼酸阴离子。
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