[发明专利]耐水性偏光膜的制造方法无效

专利信息
申请号: 200980127491.3 申请日: 2009-10-05
公开(公告)号: CN102089686A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 梅本彻;铃木聪;龟山忠幸 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09B31/072;G02F1/1335
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 以往,存在使用了具有由磺酸离子与1价阳离子键合而成的磺酸盐基的有机色素的偏光膜,但有机色素会溶于水,因此缺乏耐水性。因而,已知将磺酸盐基的1价阳离子置换成不溶于水的多价阳离子来获得不溶或难溶于水的耐水性偏光膜。然而,通过现有方法获得的耐水性偏光膜具有二色性比小、并且表面会产生细小的龟裂(裂纹)的问题。使由有机色素与聚乙烯醇系聚合物的混合物获得的偏光膜与包含(1)有机胺阳离子和多价金属阳离子中的至少一种和(2)四羟基硼酸阴离子的耐水化处理液接触来进行耐水化处理,从而获得二色性比高、不产生龟裂的耐水性偏光膜。
搜索关键词: 耐水性 偏光 制造 方法
【主权项】:
一种耐水性偏光膜的制造方法,其特征在于,该制造方法包括如下工序:使包含具有2个以上阴离子性基团的有机色素和聚乙烯醇系聚合物的偏光膜的表面与耐水化处理液接触来进行耐水化处理,所述耐水化处理液包含有机胺阳离子和多价金属阳离子中的至少一种和四羟基硼酸阴离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980127491.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top