[发明专利]气体输送装置无效
| 申请号： | 200980127912.2 | 申请日： | 2009-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102203316A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 约翰·迈克尔;罗伯特·杰弗里·贝利 | 申请（专利权）人： | SPP处理技术系统英国有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在基底位置处的低压原子层沉积的气体输送装置。所述装置包括第一总体细长的喷射器(21)，用于将处理气体供给至处理部位(22)；位于所述处理部位(22)周围的第一排气部位(23)；和位于所述第一排放气体周围的另一喷射器(25)，用于将净化气体或惰性气体在所述处理部位(22，24)周围的出口(26)处供给，所述处理部位面对所述出口周围的位置，以限定至少部分气体密封。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 输送 装置 | ||
【主权项】：
一种用于在基底位置上进行低压原子层沉积的气体输送装置，包括：第一总体细长的喷射器，用于将处理气体供给至处理部位；位于所述处理部位周围的第一排气部位；和位于所述第一排放气体周围的另一喷射器，用于在所述处理部位周围的出口处供给净化气体或惰性气体，所述处理部位具有面对所述出口周围的位置的壁，以限定至少部分气体密封。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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