[发明专利]包含污染捕获器的极端紫外辐射生成设备有效
| 申请号： | 200980128098.6 | 申请日： | 2009-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN102099746A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | C.梅茨马歇尔;A.韦伯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谢建云;刘鹏 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种改进的EUV生成设备，该EUV生成设备具有用于“捕获”由锡浴的腐蚀或者其它不希望的反应导致的污染和/或碎屑的污染捕获器。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 污染 捕获 极端 紫外 辐射 生成 设备 | ||
【主权项】：
极端紫外辐射生成设备，该极端紫外辐射生成设备包含：等离子体生成设备；至少一个锡供应系统，所述至少一个锡供应系统具有与所述等离子体生成设备流体连通的供应贮存器，调适为向所述等离子体生成设备供应液态锡，其中所述锡供应系统包含用于供应锡的至少一个供应装置，该极端紫外辐射生成设备还包含与在所述供应装置中供应的锡至少部分接触的至少一个污染捕获器，其中所述污染捕获器在其外表面至少部分地，优选地基本配备有一种材料，该材料与锡和铁体系的液相和/或与液态锡和腐蚀反应产物FeSn2的组合具有≤90°的接触角；以及能够以≥0.1mm/s且≤50mm/s的速度运动。
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