[发明专利]成像系统

摘要

本发明提供一种带电粒子多子束系统，用于使用多个子束对目标(11)进行曝光。该系统包括用于生成带电粒子波束(20)的带电粒子源(1)、用于定义来自所生成波束的多组子束(23)的子束孔径阵列(4D)、包括了用于可控地阻断子束(23)的阻断器的阵列的子束阻断器阵列(6)、用于阻断由阻断器偏转的子束(23)的波束终止阵列(8)，该波束终止阵列(8)包括孔径阵列，每个波束终止孔径对应于一个或多个阻断器，以及用于将子束投影到目标表面上的投影透镜系统的阵列(10)。该系统使源(1)成像到波束终止阵列(8)的平面上、投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或在波束终止阵列(8)和投影透镜系统(10)的有效透镜平面之间的平面上，并且该系统将子束孔径阵列(4D)成像到目标(11)上。

主权项

一种带电粒子多子束系统，其用于使用多个子束对目标(11)进行曝光，该系统包括：带电粒子源(1)，用于生成带电粒子波束(20)；子束孔径阵列(4D)，其用于从所生成的波束定义多组子束(23)；子束阻断器阵列(6)，其包括用于可控地阻断子束的阻断器的阵列；波束终止阵列(8)，其用于阻断由所述阻断器偏转的子束，该波束终止阵列包括孔径阵列，每个波束终止孔径对应一个或多个阻断器；以及投影透镜系统的阵列(10)，其用于将子束投影到所述目标的表面上，其中所述系统将源成像到所述波束终止阵列处的平面上、所述投影透镜系统的有效透镜平面处的平面上、或者所述波束终止阵列和投影透镜系统的有效透镜平面之间的平面上，并且所述系统将所述子束孔径阵列成像在所述目标上。