[发明专利]从低纯度水制造高纯度水的方法及制造装置有效
| 申请号： | 200980130250.4 | 申请日： | 2009-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN102164861A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 早藤茂人;桥爪秀幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社CDM咨询 |
| 主分类号： | C02F1/22 | 分类号： | C02F1/22 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;李昆岐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，为了究明使用海水经由气体水化物而得到淡水的技术的问题，谋求解决该问题，以此为基础，从不限定于海水的、包含污水的低纯度水得到高纯度水，依次进行如下工序：使可形成气体水化物的一种或两种以上的气体与低纯度水在为比低纯度水的冰点高的温度且可形成气体水化物的条件下接触，得到在低纯度水中悬浮的固体的气体水化物的工序；一边实质上维持气体水化物状态，一边将在气体水化物形成过程中使用的低纯度水脱水，使用清洗水清洗附着于气体水化物的成分的工序；通过形成与气体水化物状态相比的高温状态或低压状态，将气体水化物转化为气体和高纯度水的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 纯度 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种从低纯度水制造高纯度水的方法，其特征在于，依次进行如下工序：使可形成气体水化物的一种或两种以上的气体与低纯度水在为比低纯度水的冰点高的温度且可形成气体水化物的条件下接触，得到在低纯度水中悬浮的固体的气体水化物的工序，一边实质上维持气体水化物状态，一边将在气体水化物形成过程中使用的低纯度水脱水，使用清洗水清洗附着于气体水化物的成分的工序，通过形成与气体水化物状态相比的高温状态或低压状态，将气体水化物转化为气体和高纯度水的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社CDM咨询，未经株式会社CDM咨询许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980130250.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种系统级芯片利用NAND闪存启动的方法
- 下一篇：一种带有气阻室的探针盒
