[发明专利]基于空间光调制器(SLM)的光衰减器有效
| 申请号： | 200980131841.3 | 申请日： | 2009-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN102150069A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 杰斐逊·L·瓦格纳;托马斯·安德鲁·斯特拉瑟 | 申请（专利权）人： | 尼斯迪卡有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/02 | 分类号： | G02B26/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 谷惠敏;穆德骏 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于衰减光束的方法和设备。该方法包括：选择要被应用到该光束的衰减水平。在二维空间光调制器(SLM)中的接通状态和关断状态像素的图案被选择以便该图案调制该光束以提供选择的衰减水平。最后，在以该选择的图案布置像素的同时，光束被引导到SLM上。该图案沿着第一轴是周期性的，并且沿着第二轴是对称的，其中，光束的强度分布沿着第二轴延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 空间 调制器 slm 衰减器 | ||
【主权项】：
一种用于衰减光束的方法，包括：选择要被应用到光束的衰减水平；在二维空间光调制器(SLM)中选择接通状态和关断状态的像素的图案，以便所述图案将调制所述光束以提供选择的所述衰减水平；以及在以选择的所述图案布置所述像素的同时，将所述光束引导到所述SLM上，其中，所述图案沿着第一轴是周期性的，并且关于第二轴是对称的，其中，所述光束的强度分布沿着所述第二轴延伸。
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