[发明专利]表面处理陶瓷构件、其制造方法及真空处理装置有效
| 申请号： | 200980132385.4 | 申请日： | 2009-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN102123970A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 中野贤明;伊东润一;平松大典;荒堀忠久;冈本研 | 申请（专利权）人： | 爱发科股份有限公司;飞罗得陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/84 | 分类号： | C04B41/84;C01B33/12;C23C18/02;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种表面处理陶瓷构件，其为气孔率为1％以下的陶瓷烧结体基材的至少部分具有皮膜形成表面的陶瓷构件，皮膜形成表面是由硅醇盐化合物聚合体的溶胶凝胶皮膜和基材表面混杂存在而成的，具体而言，所述溶胶凝胶皮膜的面积率为皮膜形成表面整体的5～80％。该表面处理陶瓷构件具有优异的耐腐蚀性，不存在颗粒的飞散。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 陶瓷 构件 制造 方法 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种表面处理陶瓷构件，其为孔隙率为1％以下的陶瓷烧结体基材的至少部分具有皮膜形成表面的陶瓷构件，皮膜形成表面是由硅醇盐化合物聚合体的溶胶凝胶皮膜和基材表面混杂存在而成的。
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