[发明专利]用于制造图案形成体的方法和使用电磁束的加工装置无效
| 申请号： | 200980132651.3 | 申请日： | 2009-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102132173A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 宇佐美由久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G03F7/20;H01L33/00;B23K26/00;B23K26/08;B23K26/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种用于图案形成体的制造方法，采用该方法可以在不使凹坑的形状变形的情况下容易地形成点状图案。提供了用于制造其上形成了点状图案的图案形成体的方法。此制造方法包括：制备步骤，其中制备具有光致抗蚀剂层的基板，所述光致抗蚀剂层在用电磁束照射并因此被加热时发生形状变化；和曝光步骤，其中用电磁束照射和扫描所述光致抗蚀剂层以去除光致抗蚀剂层的一部分，其中在所述曝光步骤中，将所述电磁束的发射时间调整为与形成于所述光致抗蚀剂层上的多个凹坑(21)在扫描方向上的间距相对应的扫描时间的10-40％。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 图案 形成 方法 使用 电磁 加工 装置 | ||
【主权项】：
一种用于制造图案形成体的方法，在所述图案形成体上形成了点状图案，所述方法包括：制备步骤，其中制备具有光致抗蚀剂层的基板，所述光致抗蚀剂层在用电磁束照射并因此被加热时发生形状变化；和曝光步骤，其中用所述电磁束照射和扫描所述光致抗蚀剂层以去除所述光致抗蚀剂层的一部分，其中在所述曝光步骤中，将所述电磁束的发射时间调整为落入与形成于所述光致抗蚀剂层上的多个凹坑在扫描方向上的间距相对应的扫描时间的10‑40％以内。
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