[发明专利]图案形成体和用于制造图案形成体的方法无效
| 申请号： | 200980133487.8 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN102132174A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 宇佐美由久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G03F7/20;H01L33/00;B23K26/00;B23K26/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种表面上具有密集排列的凹坑并且易于制造的图案形成体，以及用于制造这样的图案形成体的方法。图案形成体包括基板10，和在所述基板10上设置的可热致变形的热模式光致抗蚀剂层20，在所述光致抗蚀剂层20上形成了凹坑21。凹坑21沿多个基本上彼此平行的轨道并列地排列，并且当在轨道Tn延伸的方向上观看时，一个轨道上的每个凹坑21位于与排列在相邻轨道上的两个相邻凹坑之间的中点对应的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种图案形成体，所述图案形成体具有上面形成了点状图案的表面，所述图案形成体包括：基板；光致抗蚀剂层，所述光致抗蚀剂层设置在所述基板上并且当用电磁束照射并因此被加热时发生形状变化；和多个形成于所述光致抗蚀剂层上的凹坑，其中所述多个凹坑沿多个基本上彼此平行的轨道并列地排列，并且当在所述多个轨道延伸的方向上观看，一个轨道上的每个凹坑位于与排列在相邻轨道上的两个相邻凹坑之间的中点对应的位置。
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