[发明专利]用于制备显示虚像的光学元件的方法有效
| 申请号： | 200980134178.2 | 申请日： | 2009-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN102138095A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 布拉因·J·盖茨;查尔斯·A·马蒂拉;特拉维斯·L·波茨;瑟奇·韦策尔斯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 虚像(VI)装置显示看起来位于所述装置的平面之上或之下的图像。制造VI显示装置的方法包括基于物体计算初始VI通量图案并且随后基于所述初始VI通量图案制造具有VI阵列图案的基底。然后可将多个透镜施用到VI阵列图案上。所述VI基底可为静态的或动态的并且可显示灰度信息。在所述VI基底的制造中，光掩模可用作中间元件或可用作所述VI基底本身。产生初始VI通量图案的方法包括将由所述物体上的不同点产生的光线虚拟地映绘至图像平面以及ii)将来自所述不同点的所述光线加和。所述光线可通过透镜阵列进行映绘。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 显示 虚像 光学 元件 方法 | ||
【主权项】：
一种制造用于显示物体的虚像显示装置的方法，包括：基于所述物体，计算初始虚像通量图案；以及基于所述初始虚像通量图案，制造具有虚像阵列图案的基底。
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