[发明专利]用于光学邻近校正的方法、使用字符投影光刻的光罩的设计和制造无效
| 申请号： | 200980134242.7 | 申请日： | 2009-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN102138106A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 藤村晶;兰斯·格兰瑟;三桥隆;萩原和之 | 申请（专利权）人： | D2S公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G03F1/16 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了用于制造具有大量微小差别图案的表面的方法和系统。所述方法包括在模板掩模上使用字符组合，用于在表面上形成图案；和通过使用字符改变技术，减小发射数或总写入时间。还公开了上述方法应用于打碎、掩模数据准备或邻近效应校正。还公开了用于在表面上的图案的设计的光学邻近校正的方法，包括为衬底输入所期望的图案；和输入可以用于在表面上形成图案的字符组合，所述字符组合中的一些是复杂字符。还公开了产生图像字符的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 邻近 校正 方法 使用 字符 投影 光刻 设计 制造 | ||
【主权项】：
一种用于制造表面的方法，所述表面具有大量微小差别图案，所述方法包括如下步骤：在模板掩模上使用字符组，用于在所述表面上形成图案；和通过使用字符改变技术，减小发射数或总写入时间。
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