[发明专利]基板处理液和使用该处理液的抗蚀基板处理方法有效
| 申请号： | 200980135780.8 | 申请日： | 2009-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102150085A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 王晓伟;康文兵;片山朋英;松浦裕里子;小池彻 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(日本)株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;H01L21/027;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以有效除去残存在显影后抗蚀基板表面上的抗蚀剂残渣，并且能够使图案精细化的抗蚀基板处理液以及使用该处理液的抗蚀基板的处理方法。处理具有该显影后的光抗蚀图案的抗蚀基板的抗蚀基板处理液含有不溶解显影后的光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。通过将显影处理后的抗蚀基板与该抗蚀基板处理液接触，并用水等冲洗液进行洗涤，可以有效除去基板表面上的抗蚀剂残渣。溶剂优选使用水，聚合物优选使用水溶性聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 使用 抗蚀基板 方法 | ||
【主权项】：
一种抗蚀基板处理液，其处理具有显影后的光抗蚀图案的抗蚀基板，其特征在于，含有不溶解前述光抗蚀图案的溶剂、以及可溶解于前述溶剂的聚合物。
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