[发明专利]氧化物烧结体及溅射靶材有效
| 申请号： | 200980136121.6 | 申请日： | 2009-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102159517A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 宇都野太;井上一吉;川岛浩和;笠见雅司;矢野公规;寺井恒太 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/00 | 分类号： | C04B35/00;C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化物烧结体，其特征在于，镓固溶于氧化铟；原子比Ga/(Ga+In)为0.001～0.12；铟和镓相对于总金属原子的含有率为80原子％以上；具有In2O3的方铁锰矿结构。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 溅射 | ||
【主权项】：
一种氧化物烧结体，其特征在于，镓固溶于氧化铟，原子比Ga/(Ga+In)为0.001～0.12，铟和镓相对于总金属原子的含有率为80原子％以上，具有In2O3的方铁锰矿结构。
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