[发明专利]透明导电膜制造用的氧化物烧结体无效

专利信息
申请号: 200980137493.0 申请日: 2009-09-18
公开(公告)号: CN102171159A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 生泽正克;矢作政隆 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: C04B35/00 分类号: C04B35/00;C23C14/08;H01B1/08;H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 蔡晓菡;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供在平板显示器用显示电极等中使用的ITO系非晶质透明导电膜,其在基板未加热而溅射时无须添加水的情况下即可进行制造,能够高度满足高蚀刻性和低电阻率这两者。氧化物烧结体,其以氧化铟为主成分,并含有选自镍、锰、铝和锗中1种以上作为第一添加元素,第一添加元素的含量的合计相对于铟和第一添加元素的合计量为2~12原子%。
搜索关键词: 透明 导电 制造 氧化物 烧结
【主权项】:
氧化物烧结体,其特征在于,以氧化铟为主成分,并含有选自镍、锰、铝和锗的1种以上作为第一添加元素,第一添加元素的含量的合计相对于铟和第一添加元素的合计量为2~12原子%。
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