[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及用于制造光谱纯度滤光片的方法有效
| 申请号： | 200980137614.1 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102165372A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | W·A·索尔;A·M·雅库尼恩;M·J·J·杰克;D·马修;H·J·凯特拉里基;F·C·范登荷尤维尔;P·E·M·库基皮尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20;G21K1/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种透射光谱纯度滤光片(100)，配置成透射极紫外辐射。光谱纯度滤光片(102F)包括滤光片部分(100)，所述滤光片部分(100)具有配置成透射极紫外辐射并抑制第二类型辐射的透射的多个孔(104)。每个孔(104)通过各向异性蚀刻工艺制造。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 纯度 滤光 光刻 设备 以及 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透射光谱纯度滤光片，配置成透射极紫外辐射，所述光谱纯度滤光片包括滤光片部分，所述滤光片部分具有配置成透射极紫外辐射并抑制第二类型辐射的透射的多个孔，其中每个孔通过各向异性蚀刻工艺制造。
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