[发明专利]制造用于亚毫米级导电栅格的具有亚毫米级开口的掩模的方法、具有亚毫米级开口的掩模和亚毫米级导电栅格有效
| 申请号： | 200980137638.7 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102164869A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | G·扎格杜;B·恩希姆;E·瓦朗坦;S·恰卡罗夫 | 申请（专利权）人： | 法国圣-戈班玻璃公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03C17/06;C03C17/23;H01L51/52;H01L51/56;H01L51/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东;谭邦会 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造具有亚毫米级开口(10)的掩模(1)的方法，其中：对于遮蔽层，将稳定并分散在第一溶剂中的胶体纳米颗粒的溶液沉积，该颗粒具有给定的玻璃化转变温度Tg；在低于所述温度Tg的温度下进行所述遮蔽层的干燥，直到获得具有亚毫米级开口的二维网络的掩模，其具有基本上直的掩蔽区域边缘，在被称为网络掩蔽区域的区域中；通过机械和/或光学去除至少一个网络掩模区域的外部，在所述表面上形成无遮蔽的区域。本发明还涉及所述网络掩模(1)，和由此获得的具有导电固体区域的格栅。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 用于 毫米 导电 栅格 具有 开口 方法 | ||
【主权项】：
一种制备具有亚毫米级开口(10)、尤其是具有微米级开口的掩模(1)的方法，在基底(2)的主表面上，通过沉积给定溶液的液体遮蔽层、并使其干燥来形成亚毫米掩模，其特征在于，‑对于所述遮蔽层，将稳定并分散在溶剂中的胶体纳米颗粒的溶液沉积，该纳米颗粒具有给定的玻璃化转变温度Tg；‑在低于所述温度Tg的温度下进行所述遮蔽层的干燥，直到获得被称为网络掩模的具有亚毫米级开口的二维网络的掩模，其具有基本上直的掩模区域边缘，该掩模位于被称为网络掩模区域的区域之上；且特征在于，该方法包括通过机械和/或光学去除网络掩模区域的至少一个外部，在所述表面上形成无遮蔽的区域。
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