[发明专利]投影系统和光刻设备有效
| 申请号： | 200980138207.2 | 申请日： | 2009-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN102165373A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | E·鲁普斯特拉;W·德勃伊;H·布特勒;R·德珠;J·范斯库特;T·森吉尔斯;M·维基克曼斯;F·詹森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供一种投影系统(PS)，在一个实施例中，所述投影系统包括两个框架。投影系统的光学元件安装在第一框架(200)上。使用第一测量系统(910)相对于第二框架(300)测量光学元件的位置。第二测量系统(920)用于测量与第二框架变形相关的参数。由第二测量系统得出的测量值可以用于补偿通过第一测量系统测量时由第二框架变形带来的光学元件的位置的任何误差。通常，框架的变形是由于共振和热膨胀。具有两个框架允许投影系统的光学元件以高精确度定位。可选地，可以设置温度控制系统(780、790)以在光刻设备已经离线之后驱使至少一个框架的温度回到想要的数值水平。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的投影系统，包括：第一框架；第二框架；安装至第一框架的光学元件；第一测量系统，配置成确定光学元件相对于第二框架的位置；和第二测量系统，配置成测量依赖于第二框架的变形的至少一个参数。
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