[发明专利]低污染光学布置有效
申请号: | 200980138884.4 | 申请日: | 2009-08-11 |
公开(公告)号: | CN102171617A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
发明(设计)人: | 关彦彬;史蒂芬·泽尔特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 一种具有多个光学元件(8,8′)的光学布置,所述光学元件(8,8′)能够传输光束(10),并且提供了至少一部分壳体(9,9′),在从所述光学元件(8,8′)发出的光束的方向上,或者入射于所述光学元件上的光束的方向上,至少一部分壳体(9,9′)从光学元件(8,8′)的表面延伸,并且其形状适配于所述光束的形状,所述至少一部分壳体(9,9′)至少部分被测量结构(11)所围绕,测量结构与至少一部分壳体(9,9′)机械解耦,并且所述测量结构(11)具有至少一传感器(12,17)。 | ||
搜索关键词: | 污染 光学 布置 | ||
【主权项】:
一种EUV投射曝光系统(1),包括光学布置,其中所述光学布置包括:多个光学元件(8,8′,80,M1,M2,M3,M4),每个所述光学元件具有包括至少一反射面的本体,从而传输将物(OF)投射至像(IF)的光束(10),第一部分壳体(9,9′,90),从来自所述多个光学元件(8,8′,80,M1,M2,M3,M4)的第一光学元件(8,M1)的至少一反射面,在所述第一光学元件(8,M1)的反射面上入射和/或反射的光束(10)的方向上延伸,其中所述第一部分壳体(8,M1)的形状适配于所述光束(10)的形状并且适配于所述第一光学元件(8,M1)的形状,使得所述第一部分壳体(9,9′,90)在对应的方向或者多个方向围绕所述光束(10),并且所述第一部分壳体(9,9′,90)围绕所述第一光学元件(8,M1)的所述至少一反射面,所述第一部分壳体(9,9′,90)和所述第一光学元件(8,M1)的本体之间具有间隙(100,G),其中所述第一部分壳体(9,9′,90)被构造以便通过第一安装件至少完全支撑所述第一光学元件(8,M1)。
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