[发明专利]收集器组件、辐射源、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种收集器组件(300)，其包括用于将来自辐射发射点(31)(诸如极紫外辐射发射点)的辐射反射至中间焦点(18)的第一收集器反射镜(33)，来自所述中间焦点的辐射用在用于器件制造的光刻设备中。在辐射发射点(31)前面的第二收集器反射镜(35)收集另外的辐射，将它反射回至第三反射镜(36)和从第三反射镜到达中间焦点(18)。反射镜(33、35、36)可以允许辐射被高效率地且没有增加展度地收集。收集器组件(300)可以减小或移除所收集的辐射的不均匀性，例如由通过激光束阻挡件(34)收集的辐射的遮蔽所引起，所述激光束阻挡件用于防止激光激励辐射进入到光刻设备中。

主权项

一种用于光刻设备的收集器组件，所述收集器组件包括：第一收集器反射镜，具有第一焦点和第二焦点，所述第二焦点与所述第一焦点相比更加远离所述第一收集器反射镜，所述第一和第二焦点限定了光轴，且限定了分别通过所述第一和第二焦点的第一和第二焦平面，且每一焦平面垂直于所述光轴，其中所述第一收集器反射镜被布置以收集直接来自定位在所述第一焦点的辐射发射点的第一辐射且朝向所述第二焦点反射所述第一辐射；第二收集器反射镜，定位在所述第一和第二焦平面之间，且布置成收集直接来自所述辐射发射点的第二辐射；和第三反射镜，定位成基本上在所述第一焦平面和第二收集器反射镜之间的光轴上，其中，所述第二收集器反射镜布置成将所述第二辐射反射到所述第三反射镜上，所述第三反射镜布置成将所述第二辐射反射至所述第二焦点，其中所述第二收集器反射镜布置成基本上不阻挡从所述第三反射镜反射至所述第二焦点的所述第二辐射，或从所述第一收集器反射镜反射至所述第二焦点的所述第一辐射。