[发明专利]X射线成像装置和X射线成像方法有效
| 申请号： | 200980141289.6 | 申请日： | 2009-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN102187207A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 罗银燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 用于获得关于由被检体导致的X射线的相位偏移的信息的X射线成像装置包括：分离元件，用于将从X射线产生器单元发射的X射线在空间上分离成X射线束；衰减器单元，具有用于接收被分离元件分离的X射线束的衰减元件的布置；以及强度检测器单元，用于检测被衰减器单元衰减的X射线束的强度；并且衰减元件依赖于该元件上的X射线入射位置连续改变X射线的透射量。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，用于获得关于由被检体导致的X射线的相位偏移的信息，所述X射线成像装置包括：分离元件，用于将从X射线产生器单元发射的X射线在空间上分离成X射线束；衰减器单元，具有用于接收被分离元件分离的X射线束的衰减元件的布置；以及强度检测器单元，用于检测被衰减器单元衰减的X射线束的强度；并且衰减元件依赖于衰减元件上的X射线入射位置连续改变X射线的透射量。
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