[发明专利]制造光波导无效
| 申请号： | 200980141775.8 | 申请日： | 2009-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102187257A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 克拉伦斯·徐 | 申请（专利权）人： | 高通MEMS科技公司 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/13;B29C43/00;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 宋献涛 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于制造波导的方法和装置。一些所述方法涉及使用用于将衬底和/或其它组件成形的压印工艺来形成所述波导的至少一部分。一些实施方案提供用于通过省略先前可能被视为经由半导体制造工艺形成波导所必需的步骤的步骤来制成波导特征的工艺。一些实施方案提供通过有意引起迄今为止一直被视为半导体制造工艺中的缺陷的缺陷来形成波导特征的工艺。一些所述方法和装置可以实质上比迄今为止可能的成本低的成本来生产波导。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 波导 | ||
【主权项】：
一种形成波导的方法，其包含：将波导特征的轮廓按压到第一层中；将所述第一层粘贴到具有比所述第一层低的折射率的第二层；以及使用具有比所述第一层低的折射率的第三层包覆所述波导特征。
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