[发明专利]压印工艺的分离阶段中的应变和动力学控制有效
申请号: | 200980142645.6 | 申请日: | 2009-10-26 |
公开(公告)号: | CN102203671A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | N·胡斯努季诺夫;F·Y·徐;M·J·美斯尔;M·N·米勒;E·汤普森;G·施米德;P·K·尼玛卡雅拉;吕晓明;崔炳镇 | 申请(专利权)人: | 分子制模股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 钱慰民 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 描述了压印光刻工艺的分离工艺中改善强健的层分离的系统和方法。包括方法:使拟压印的衬底和模板之间的应变匹配;改变或修正在分离过程中作用于模板和/或衬底的力,或改变或修正分离工艺的动力学特性。 | ||
搜索关键词: | 压印 工艺 分离 阶段 中的 应变 动力学 控制 | ||
【主权项】:
一种对衬底布图的方法,包括:使所述衬底的应变特性与模板匹配,所述模板具有第一凸凹图案;将与所述模板上的第一凸凹图案对应的第二凸凹图案转印至所述衬底,所述转印包括在所述衬底和模板之间的可塑液体中形成第二凸凹图案,所述第二凸凹图案对应于所述模板上的第一凸凹图案,所述可塑液体形成沉积在所述衬底上的固化层;以及将所述模板从所述固化层分离。
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